Siliziumtechnik
Isotrope- und anisotrope Silizium-Ätztechniken ermöglichen die dreidimensionale Strukturierung von Silizium.
 
Senkrechte Gräben und Wände in Silizium
  Senkrechte Strukturen in Silizium
 
Mittels anisotropem Tiefenätzen von Silizium lassen sich beliebige Strukturen mit Abmessungen auch unter 1 µm mit senkrechten Seitenwänden erzeugen. Dabei können für Gräben Aspektverhältnisse bis ca. 5 und für Stege Aspektverhältnisse grösser 10 erreicht werden.
 
Mehrstufige Strukturen mit Durchgangsöffnung
  Zweistufige Siliziumstrukturen
 
Die 3D-Siliziumtechnik bietet die Möglichkeit mehrstufige Strukturen und solche mit Durchgangsöffnung zu realisieren. Die maximale Höhe kann hierbei ca. 1 mm betragen.
 
Isotrop geätzte Strukturen
  Isotrop geätzte Siliziumstruktur
 
Neben den Strukturen mit senkrechten Wänden können für bestimmte Anwendungen gezielt auch solche mit konkaven Wänden erzeugt werden. Eine Anwendung dafür sind z.B. Strukturen für die Mikrofluidik.